10月27日，光刻胶概念股集体异动，截至午间收盘，万润股份（002643.SZ）涨停，（300655.SZ）领涨，锦华新材（920015.BJ）、迦南科技（300412.SZ）、佳先股份（920489.BJ）等跟涨。
消息面上，我国首个EUV光刻胶标准立项。国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。
据悉，该标准的制定不仅能够填补国内在该领域的技术标准空白，更将通过建立统一的测试方法体系，为国内外EUV光刻胶的性能评价提供客观标尺。
此外，近日北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。
彭海琳表示，冷冻电子断层扫描技术为在原子/分子尺度上解析各类液相界面反应提供了强大工具。深入掌握液体中聚合物的结构与微观行为，可推动先进制程中光刻、蚀刻和湿法清洗等关键工艺的缺陷控制与良率提升。
中国银河证券表示，该方案首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，当前光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。银河证券认为，光刻胶作为半导体、印制电路板、平板显示等行业的基础材料，其技术进步可以促进相关产业链的协同发展，上游材料供应商、设备制造商，中游光刻胶生产企业，以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。
光大证券指出，半导体材料板块正处于需求扩张与国产替代的共振阶段。光刻胶等核心材料既受益于晶圆投片量增加，又面临国产化率提升的政策支持。预计2025年中国大陆光刻胶市场规模同比增长6.8%至179亿元。
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